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机译:通过等离子体处理改善表面活性剂模板介孔二氧化硅薄膜的电性能
Department of Ceramic Engineering, Yonsei University, 134 Sinchon-dong, Seodaemoon-ku, Seoul, 120-749, South Korea;
mesoporous; low-k; brij-76; plasma treatment;
机译:使用Brij-76表面活性剂的表面活性剂模板介孔二氧化硅薄膜的电气和机械性能
机译:表面活性剂模板的介孔二氧化硅薄膜的反射率:模拟与实验
机译:使用时间分辨单分子成像技术测量表面活性剂模板的介孔二氧化硅薄膜的本征性质
机译:表面活性剂模板介孔二氧化硅薄膜浓度依赖性腹部结构
机译:分子功能化介孔二氧化硅薄膜的电和机械性能。
机译:Eu3 +掺杂的立方介孔二氧化硅薄膜的结构和发光性能
机译:NH3等离子体处理后中孔超低k薄膜的力学性能的改善