机译:化学声刻蚀和紫外线辐射对光声技术研究的多孔硅的光吸收和热扩散率的影响
Univ Electrocommun, Course Coherent Opt Sci, Chofu, Tokyo 1828585, Japan;
Univ Electrocommun, Dept Appl Phys & Chem, Chofu, Tokyo 1828585, Japan;
porous silicon; photoacoustic technique; optical absorption; thermal diffusivity; UV irradiation; SOLAR-CELLS; FABRICATION; DEPENDENCE; SENSOR;
机译:光声光谱法研究多孔硅中的光吸收
机译:多孔类金刚石碳薄膜的光吸收,光致发光和热扩散率的光声研究
机译:使用光声技术表征多孔硅的热,光学和载流子传输特性
机译:用表面非线性光学技术研究二氧化硅在邻域Si(111)上的热诱导应力松弛
机译:通过光学和热结电容技术研究掺磷的氢化非晶硅中的缺陷反应和晶格弛豫
机译:叶酸在磷酸盐缓冲溶液中的光学性质:pH和UV辐射对UV-VIS吸收光谱和光致发光的影响
机译:采用光声技术对多孔硅的热,光学和载流子传输性能的表征
机译:紫外辐照叠氮化钠的偏振光吸收。