机译:高密度等离子体化学气相沉积法表征掺氟SiO_2薄膜沉积中溅射诱导的温度效应
Department of Materials Science and Engineering, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan;
high-density plasma CVD; fluorosilicate glass; low-dielectric constant;
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积氟掺杂二氧化硅薄膜的FTIR表征
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:低温多晶硅薄膜传输器制造中通过等离子体化学气相沉积法沉积的Si和SiO_2膜中铝的偏析
机译:氟掺杂对通过等离子体增强化学气相沉积形成的SiO / sub 2 /薄膜的介电强度的影响
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:氟掺杂对等离子体增强化学气相沉积SiO2薄膜介电强度的影响