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机译:等离子体浸没离子处理沉积非晶态氢化Si-N合金的化学键研究
Materials Science and Technology Division, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM 87545, United States;
silicon nitride; chemical bonding; X-ray photoelectron microscopy;
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积氢化非晶硅碳合金薄膜的椭圆偏振光谱研究
机译:将氟掺入通过等离子体化学气相沉积法沉积的非晶氢化碳膜中:通过X射线光电子能谱和拉曼光谱研究的结构修饰
机译:将氟掺入通过等离子体化学气相沉积法沉积的非晶氢化碳膜中:通过X射线光电子能谱和拉曼光谱研究的结构修饰
机译:等离子体浸没离子加工沉积的无定形氢化Si-N合金的化学键合研究
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:等离子体沉积非晶态金属合金中原子间键合与电子输运的关系