机译:反应性双极脉冲磁控溅射沉积Al_2O_3涂层的硬度与氧气流量的关系
Surface Engineering, RWTH Aachen University, Augustinerbach 4-22 52062 Aachen, Germany;
gamma alumina; PVD coatings; pulsed magnetron sputtering; machining inconel 718; tool coatings;
机译:频率和C_2H_2流量对反应性大功率脉冲磁控溅射沉积AlCrSi共掺杂类金刚石碳涂层生长性能的影响
机译:成分扩散法优化直流和双极脉冲磁控溅射沉积的(Ti,Al)N硬涂层
机译:衬底偏压,衬底温度和脉冲频率对脉冲直流反应磁控溅射沉积氮化铬涂层微观结构的影响
机译:反应性双极脉冲磁控溅射沉积的Al2O3涂层硬度和氧气流的关系
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:磁控溅射沉积的ZrZr氮化物和Zr-碳氮化物涂层的合成微观结构表征及纳米抑制
机译:DC和脉冲DC不对称双极磁控溅射沉积NBN涂层的对比研究