...
机译:氧分压对掺Ga的ZnO薄膜局部结构性能的影响
Advanced Materials Laboratory, National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;
E. electronics; optics and opto-electronics; 563. zinc oxide; 403. Raman scattering; 202. impurities;
机译:氧分压对行进衬底离子镀Ga掺杂ZnO薄膜掺杂性能的影响
机译:氧气压力对脉冲激光沉积生长的Al和Sb共掺杂P型ZnO薄膜结构和电性能的影响
机译:氮氧分压对磁控溅射ZnO:N薄膜结构和光学性能的影响
机译:氧分压对GA掺杂ZnO薄膜局部结构性能的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:氧溅射压力对气敏性ZnO薄膜结构形貌和光学性质的影响
机译:氧分压对掺铒ZnO薄膜微观结构和磁性的影响