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机译:用于集成光学应用的等离子增强化学气相沉积氮氧化硅层的优化
Integrated Optical MicroSystems, MESA+ Research Institute, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands;
plasma-enhanced chemical vapor deposition; silicon oxynitride; process optimization; layer composition; optical properties;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积双层富硅氧氮化硅和氮化硅的表面钝化结晶硅
机译:高性能多层有机硅/氧氮化硅水屏障结构通过等离子体增强的化学气相沉积在低温下连续沉积
机译:集成Mach-Zehnder干涉式生物传感器,具有通过等离子体增强化学气相沉积法制备的氮氧化硅波导
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的富含硅的氮氧化物层的强紫外可见光可调光致发光
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积沉积非晶硅和硅基电介质:在制造TFT和MOSFET中的应用
机译:等离子体增强化学气相沉积中薄膜硅逐层生长的原因
机译:用于集成光学应用的等离子增强化学气相沉积氮氧化硅层的优化