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机译:反应溅射沉积SiO_χNT_y薄膜的工艺研究与结构表征
Laboratoire des Materiaux Inorganiques, UMR CNRS 6002, Universite Clermont-Ferrand (Blaise Pascal), 24 Avenue des Landais, 63177 Aublere cedex, France;
reactive sputtering; deposition process; silicon oxynitride; structural properties;
机译:反应溅射沉积SiO_xN_y薄膜的研究及结构表征
机译:镍酸镧反应溅射沉积薄膜的结构和电学表征
机译:反应气体脉冲溅射沉积W_3O / WO_3和TiO / TiO_2周期性多层薄膜的结构分析
机译:由反应性DC磁控溅射沉积CEO_2薄膜结构,光学和可湿性的研究
机译:微观结构 和组成 的可调性 在 溅射沉积 过渡金属 碳化物 薄膜 使用 超低 反应 气体压力 和2D 层
机译:反应性射频磁控溅射沉积β-WO3薄膜的HRTEM显微结构表征
机译:反应磁控溅射沉积Srtao2N氧氮化物薄膜的结构和光电化学性质