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机译:通过两步法增强在室温下使用脉冲激光沉积法生长的铟锡氧化物薄膜的电学和光学性质
Department of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University, 134, Shinchon-dong, Seodaemoon-ku, Seoul, 120-749, South Korea;
indium tin oxide; two-step process; electrical and optical properties;
机译:通过脉冲激光沉积制备的铟锡氧化物薄膜的结构,电学和光学性质
机译:APS-APS得克萨斯分校,AAPT得克萨斯分校和物理学生学会第13区联合2017年秋季会议-事件-全氧化物Ga $ _ {mathrm {2}} $ O $ _ {mathrm由氧化镍(NiO $ _ {mathrm {x}})$和氧化镓(Ga $ _ {mathrm {2}} $ O $ _ {mathrm {3}})$室温下通过脉冲激光沉积沉积的薄膜
机译:阳离子比对脉冲激光沉积生长的非晶态锌锡氧化物薄膜光学和电学性质的影响
机译:膜厚对有机发光二极管脉冲激光沉积生长铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:在氧气环境中通过脉冲激光沉积生长的氧化铟薄膜的结构和电性能