机译:自对准p沟道多晶硅薄膜晶体管的电稳定性
CNR-IFN, via Cineto Romano 42,00156 Roma, Italy;
polycrystalline silicon (poly-Si); thin-film transistors (TFTs); self-heating; stability; semiconductor device simulation;
机译:退火温度对p沟道多晶硅薄膜晶体管电特性的影响
机译:自对准p沟道多晶硅薄膜晶体管中与自热有关的不稳定性分析
机译:具有ECR N / sub 2 / O-等离子栅氧化物的短沟道P沟道多晶硅薄膜晶体管的稳定性
机译:N和P沟道非掺杂氢化多晶硅薄膜晶体管(TFT)中的电应力
机译:栅极平面化和铝栅极完全自对准的非晶硅薄膜晶体管,用于大面积和高分辨率有源矩阵液晶显示器(AMLCD)。
机译:不同金属覆盖层对P沟道SnO薄膜晶体管电性能和稳定性的影响
机译:具有自对准源极/漏极区域的氧化锌薄膜晶体管掺杂注入硼以提高热稳定性