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机译:注入金属有机化学气相沉积法生长β-硼酸钡(β-BaB_2O_4)薄膜
Laboratoire Materiaux Optiques, Photonique et Systemes-CNRS UMR 7132, Universite de Metz et Supelec-2, rue Edouard Belin-57070 Metz, France;
thin film growth; β-BBO; borates; CVD; injection-MOCVD;
机译:液相外延生长β-硼酸钡(β-BaB_2O_4)薄膜的残余应力
机译:β硼酸钡(beta-BaB2O4)薄膜在α硼酸钡(alpha-BaB2O4)衬底上的生长
机译:(100)GaAs衬底上通过金属有机化学气相沉积TiO2薄膜对生长的热影响
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:钡的新金属有机化学,挥发性碱土金属配合物的水合成以及通过金属有机化学气相沉积法合成al-钡-钙-铜-氧薄膜。
机译:快速化学气相沉积在Cu薄膜上激光诱导的几层石墨烯蚀刻
机译:挥发性无机化合物的研制及其在金属和金属氧化物薄膜的化学气相沉积中的应用
机译:用新型mOCVD(金属有机化学气相沉积)技术制备用于光电转换的薄膜:年度分包报告,1985年2月15日至1985年4月15日