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机译:用于金属有机化学气相沉积纳米薄膜原位表征的角度分辨X射线光发射光谱双层模型
Laboratoire de Recherches sur la Reactivite des Solides (LRRS), UMR 5613 CNRS-Universite de Bourgogne, 9 avenue Alain Savary, BP 47870, 21078 Dijon Cedex, France;
ARXPS; thickness measurement; interface; thin film; MOCVD; TiO_2;
机译:通过循环伏安法,UV-Vis光谱法,X射线光电子能谱,小角度X射线衍射和电化学阻抗谱表征有机-无机多层膜
机译:AlN双层缓冲层对金属有机化学气相沉积制备GaN膜质量的影响
机译:双层AlN缓冲层对金属有机化学气相沉积制备GaN膜质量的影响
机译:金属有机化学气相沉积法生长的快速热退火SiO_2覆盖的n型GaAs层中电子陷阱的深层瞬态光谱研究
机译:通过X射线和uv光发射光谱表征异质结:单层和混合单层SAM,硒化镉纳米颗粒薄膜和有机半导体沉积的能级影响。
机译:时间分辨原位液相原子力显微镜和有机金属形成过程中的红外纳米光谱框架薄膜
机译:通过X射线和UV光发射光谱表征异质结:单层和混合单层SAM,CdSe纳米颗粒薄膜和有机半导体沉积物的能级含义。