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机译:射频磁控溅射沉积ZnSe-SiO_2纳米结构的优化:等离子体种类与薄膜组成,结构和微结构性质的关系
Laboratoire Structure des Interfaces et Fonctionnalites des Couches Minces (SIFCOM)-ENSICAEN, 6 Bd. du Marechal Juin, 14050 Caen, France;
semiconductors; nanostructures; sputtering; structural properties;
机译:射频磁控溅射沉积形状记忆合金Ni_(55)Mn_(23)Ga_(22)薄膜的组织,力学和磁性
机译:磁控共溅射纳米结构Cr〜(2 +):ZnSe薄膜的结构,微结构和光学性质的优化
机译:射频磁控溅射沉积TiO2-xNx薄膜的组成和结构性能
机译:直流反应磁控溅射沉积锡薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:微观结构 和组成 的可调性 在 溅射沉积 过渡金属 碳化物 薄膜 使用 超低 反应 气体压力 和2D 层
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:反应性R.F的硅氮化钼薄膜机械和微观结构性能的相关性。磁控电流放电