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机译:添加剂气体对基于BC13的电感耦合等离子体对ZrO_x膜选择性刻蚀的影响
Department of Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, Kyunggi-do, 440-746, South Korea;
ZrO_x selective etching; BCl_3; C_4F_8;
机译:添加剂气体对基于BCl3的电感耦合等离子体对ZrO_x膜选择性刻蚀的影响
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