...
机译:射频Ar / O_2等离子体刻蚀铝涂层金刚石薄膜形成纳米晶须
Department of Electronic and Photonic Systems Engineering, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho,Kami-gun, Kochi 782-8502, Japan;
diamond nanowhiskers; anisotropic etching; RF plasma; Al coating;
机译:通过射频O-2等离子体蚀刻在涂铁的金刚石薄膜上制造的纳米晶须的电子和结构性质
机译:在射频等离子体中刻蚀具有不同金属涂层的金刚石薄膜获得的金刚石纳米晶须的性能比较
机译:轧铝涂层对纳米须轨道制造的作用,射频等离子蚀刻
机译:O_2 / Ar比对MPCVD刻蚀金刚石膜的影响
机译:氮化钛涂层阳极氧化铝和氧化物涂层铝箔射频窗口和二次电子发射。
机译:利用ArO2和(Ar + O2)气体进行射频等离子体处理PVDF薄膜以改善聚吡咯粘合性的研究
机译:高温反应离子刻蚀CF4 / O2 /空气等离子体中铝掩模的铱薄膜