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机译:通过低温金属有机化学气相沉积法生长的透明导电氧化铟薄膜
Institute of Micro- and Nanotechnologies, Technical University Ilmenau, P.O. Box 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
metal organic chemical vapor deposition; indium oxide; X-ray diffraction; grain size;
机译:三乙基硼紫外光辅助金属有机化学气相沉积法制备Cu(In,Ga)Se_2透明导电ZnO:B薄膜
机译:四甲基锡前体金属有机化学气相沉积法制备的铟锡氧化物薄膜的结构,电学和光学性质
机译:金属有机化学气相沉积法制备的紫外可见透明导电掺Ta SnO_2外延膜
机译:Zn-In-o和Ga-In-o透明导电氧化物薄膜的金属 - 有机化学气相沉积
机译:氧化铟基透明导电氧化物薄膜的金属有机化学气相沉积:前体合成,膜生长和表征及其在聚合物发光二极管器件中的应用。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:通过快速化学气相沉积和用于GaN发光二极管的超薄铟锡氧化物接触层而生长的石墨烯透明电极
机译:mOCVD(金属有机化学气相沉积)生长外延陶瓷氧化物薄膜的表征。