机译:入射角和距离对反应磁控溅射制备氮化铝膜结构的影响
School of Materials Science and Engineering, University of Ulsan, San 29, Mugeo-Dong, Nam-Gu, Ulsan, 680-749, Korea;
aluminum nitride; reactive sputtering; X-ray diffraction; refractive index;
机译:反应磁控溅射制备氮化铝薄膜的热导率
机译:反应磁控溅射制备氮化铝薄膜的热导率
机译:反应直流磁控溅射制备氮化铝膜的结构,光学和力学性能
机译:厚度对氮化锆薄膜的微观结构,电和光学性质在室温下DC反应磁控溅射制备的氮化锆薄膜
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:反应直流磁控溅射在高Ar流量下制备的氮化锆薄膜中的颜色变化