机译:织构对多晶AlNn薄膜拉曼和X射线衍射特性的影响
National Key Laboratory of Nano/Micro Fabrication Technology, Key Laboratory for Thin Film and Microfabrication of the Ministry of Education, Institute of Micro/Nano Science and Technology, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200030, PR China;
aluminum nitride; reactive sputtering; phonon mode; x-ray diffraction; raman scattering; residual stress;
机译:X射线衍射研究多晶薄膜中优选晶粒取向-KTaO_3薄膜中的多组分织构
机译:X射线衍射在<111>织构立方TiN多晶薄膜中双轴应力分量和晶胞参数的最小二乘优化
机译:多晶铁电薄膜的X射线衍射定量组织和结构表征
机译:氧含量在定向LaCOO_(3-Δ)薄膜中的影响:通过X射线衍射和拉曼光谱探测
机译:多晶铝薄膜中应变的X射线微束衍射研究。
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