机译:应变硅上超薄二氧化钛(tio_2)薄膜的可靠性
Department of Electronic Engineering, City University of Hong Kong, Hong Kong;
high-k gate dielectric; strained-si; charge trapping; oxide reliability;
机译:应变硅上超薄TiO_2薄膜的电荷俘获特性
机译:二氧化钛纳米结构的光催化活性研究:纳米粒子,纳米管和超薄膜
机译:评论“在(110)氧化钕镓镓衬底上生长的超薄二氧化钛薄膜中模板诱导的铁电行为的有趣证据”
机译:应变硅上超薄二氧化锆(ZrO2)膜的可靠性
机译:紫外线和二氧化钛含量对聚苯乙烯-二氧化钛复合膜降解的影响
机译:c面蓝宝石和二氧化钛上外延生长的二氧化钒薄膜的结构和光电性能
机译:评论“在(110)钕镓氧化物衬底上生长的超薄二氧化钛薄膜中模板诱导的铁电行为的有趣证据”
机译:钛铝超薄膜沉积研究。