机译:CH_4 / H_2等离子体中压力对碳纳米管生长的压力依赖性数值分析
Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan;
carbon nanotube; plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD); plasma modeling; methane; radical neutrals; non-radical neutrals;
机译:低压射频CH_4等离子体沉积类金刚石碳膜的基底入射碳通量的数值分析
机译:通过优化CH_4 / H_2分压提高Fe-Co催化剂放大单壁碳纳米管的效率
机译:在CH_4 / H_2 /空气等离子体中将Fe / Ni氧化物纳米线原位填充到掺杂氮的碳纳米管中
机译:CH_4 / H_2等离子体中热长丝化学气相沉积合成的碳纳米管的对准特性及机理
机译:用于碳纳米管(CNT)生长的大气压等离子体射流工艺:表征和复合材料制造。
机译:大气压力下电弧等离子体涨落与纳米颗粒生长-运输相关性的数值分析
机译:低乙醇压力下醇气源法从PT催化剂的单壁碳纳米管的生长:生长温度依赖性