机译:使用介电势垒放电辅助化学气相沉积法在大气压下沉积微孔织构二氧化钛薄膜
State Key Laboratory of Silicon Materials Science, Zhejiang University, Hangzhou 310027, PR China;
dielectric barrier discharge; chemical vapor deposition; titanium dioxide thin film; microporous;
机译:TiCl_4 / O_2 / N_2混合气体中的介电阻挡放电等离子体辅助化学气相沉积氧化钛膜
机译:TiCl4 / O2 / N2混合气体中介电阻挡放电的氧化钛膜等离子体辅助化学气相沉积
机译:大气压介质阻挡放电在铝箔上沉积的有机硅薄膜的化学组成及其电化学行为
机译:介电阻挡层化学气相沉积法在不同基材上沉积DLC膜
机译:大气压化学汽相沉积织构化氧化锌,掺杂的二氧化钛和掺杂的氧化锌薄膜。
机译:洞察等离子体在二氧化钛薄膜的大气压化学气相沉积中的作用
机译:在TiCl4 / O2 / N2混合气体中通过介电势垒放电等离子辅助化学气相沉积钛氧化物薄膜
机译:使用三元单源前体通过气溶胶辅助化学气相沉积沉积CuIns2薄膜