机译:水蒸气气氛中溅射沉积的非晶铟锡氧化物薄膜的热变化
Center for Hyper Media Research, Graduate School of Engineering, Tokyo Polytechnic University, 1583 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan;
amorphous ITO film; water vapor; thermal crystallization; electrical properties;
机译:在有或没有水蒸气的条件下沉积的部分结晶非晶氧化铟薄膜的热结晶动力学和电学性质
机译:热致非晶氧化铟锡薄膜的变化
机译:热致非晶氧化铟锡薄膜的变化
机译:溅射沉积非晶铟 - 氧化锌半导体膜的微观结构和电气传输性能
机译:氧化铟基透明导电氧化物薄膜的金属有机化学气相沉积:前体合成,膜生长和表征及其在聚合物发光二极管器件中的应用。
机译:基于非晶铟锌氧化物的高迁移率薄膜晶体管
机译:Thermal crystallization kinetic and electrical properties of partly crystallized amorphous indium oxide thin films sputtering deposited in the presence or the absence of water vapor