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机译:晶体取向对溅射沉积氧化镍薄膜电性能的影响
Department of Electronic Engineering, Kao Yuan University, No. 1821, Chung Shan Road, Lu Chu Hsiang, Kaohsiung County 82151, Taiwan, ROC;
nickel oxide; reactive sputtering; preferred orientation; electrical properties;
机译:用晶体取向有效控制研究氧化铟锡薄膜电性能研究
机译:膜厚对溅射沉积氧化镍膜结构和电性能的影响
机译:(Bi,Na)TiO_3基薄膜电学性质的晶体学取向
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机译:钴-(氧化钴,二氧化钴镍,氧化镍)和镍-钴氧化钴纳米复合薄膜的微观结构和磁性。
机译:非真空沉积p型氧化镍薄膜的形貌光学和电学性质
机译:薄膜厚度对溅射沉积氧化镍薄膜结构和电学性能的影响