机译:超高真空射频磁控溅射沉积β镓薄膜的高分辨率X射线光电子能谱
Kagami Memorial Laboratory for Materials Science and Technology, Waseda University 2-8-26 Nishi-Waseda, Shinjuku-ku, Tokyo, Japan 169-0051;
high resolution XPS; gallium oxide; oxygen deficiency; valence band structure; UHV RF magnetron sputtering;
机译:使用射频磁控溅射沉积在柔性聚萘二甲酸乙二醇酯基板上的透明掺杂镓的氧化锌导电薄膜的晶体,光学和电学特性
机译:不同射频磁控溅射功率沉积镓和铝的镓和铝共掺杂氧化锌薄膜的物理性质
机译:镓和铝共掺杂氧化锌薄膜在不同射频磁控溅射功率下的物理性质
机译:射频磁控溅射镓掺杂氧化锌薄膜的特性
机译:射频磁控溅射砷化镓薄膜的光学表征。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:反应性射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的X射线光电子能谱和拉曼光谱研究