机译:通过射频溅射铜/铁= 1的铜/铁陶瓷靶材制备薄膜:从纳米复合材料到铜铁矿化合物
Laboratoire CIRIMAT-LCMIE CNRS UMR 5085, Universite Paul Sabatier, bat 2R1, 118 route de Narbonne, 31062 Toulouse Cedex, France;
delafossite; nanocomposites; sputtering; thin films;
机译:常规玻璃基板上射频溅射制备铜铁矿CuFeO_2薄膜
机译:从单个四元复合靶材通过射频溅射沉积的Cu_2ZnSnS_4(CZTS)薄膜中的成分差异
机译:衬底温度对富锌(Ba_(0.3)Sr_(0.7))(Zn_(1/3)Nb_(2/3))0_3陶瓷进行RF溅射对BaO-SrO-ZnO- Nb_2O_5薄膜质量的影响目标
机译:射频溅射通过物理气相沉积处理Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池的ZnO,ZnO:Al薄膜的沉积和表征
机译:具有或不具有过渡金属(银,钛,铬,锰,铁,钴,镍和铜)涂层的微晶钨青铜薄膜的制备及其硝基苯反应动力学。
机译:溅射参数和铜的掺杂对聚合物基底上铁和氮化铁纳米薄膜表面自由能和磁性能的影响
机译:用 ud射频溅射铜/铁陶瓷靶制备薄膜Cu / Fe = 1:从纳米复合材料到铜铁矿化合物