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机译:离子束能量对离子束辅助沉积制备的铟锡氧化物薄膜性能的影响
Departamento de Fisica, Instituto Superior de Engenharia do Porto, Rua Dr. Antonio Bernardino de Almeida, 431, 4200-072 Porto, Portugal;
ITO; thin film; polycarbonate; ion beam assisted deposition;
机译:离子束辅助沉积技术在不同离子束电流下制备的铟锡氧化物薄膜
机译:通过低能氧离子束辅助沉积制备的铟锡氧化物薄膜的结构,电学和光学性质
机译:在室温下通过氧离子束辅助沉积制备的高质量铟锡氧化物薄膜
机译:电子束蒸发制备掺锡氧化铟薄膜的生长特性和性能随氧压的变化
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:离子束辅助沉积外延GaN薄膜
机译:离子束能量对离子束辅助沉积制备的铟锡氧化物薄膜性能的影响