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机译:脉冲激光沉积和等离子增强化学气相沉积法沉积氧化铝薄膜的性能
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积系统的等离子体和气相表征,该系统设计用于氧化铝薄膜的自限生长
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:脉冲液体注入等离子体增强金属有机化学气相沉积法沉积氧化钇和硅酸钇薄膜的微观结构和电学性质
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积沉积的低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜的影响
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:脉冲功率振幅对大功率脉冲等离子体增强化学气相沉积中等离子体性质和膜沉积的影响