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机译:HWCVD与PECVD制备的硅薄膜的生长机理比较
机译:通过HWCVD,PA-HWCVD和PECVD技术获得的氢化硅碳氮化物膜
机译:激光退火HWCVD和PECVD薄膜。电子场发射
机译:HWCVD和PECVD a-Si:H薄膜结晶过程中晶粒成核和晶粒生长的比较
机译:在接近非晶硅生长的条件下制备微晶硅薄膜的PECVD的实验和理论研究
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:HWCVD和pECVD a-si:H薄膜晶化过程中晶粒成核与晶粒长大的比较