机译:用于6.7 nm波长辐射源的反射型多层光学器件和下一代光刻
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, 3430 BE Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, 3430 BE Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, 3430 BE Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, 3430 BE Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, 3430 BE Nieuwegein, The Netherlands MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, Enschede, The Netherlands;
multilayer; lithography; X-FEL; GIXR; TEM; XPS;
机译:在不同真空环境下,高通量极紫外光照射下,极紫外光刻光学多层反射镜反射率的非线性行为
机译:HfO2 / SiO2多层增强铝合金基双波长高反射光学器件
机译:垂直入射Mo / B_(4)C多层膜在6.7 nm波长下的热和应力研究
机译:使用同步辐射的2-6nm波长区域中Ni / V Ni / Ti和W / C多层镜的反射率测量
机译:VUV / UV辐射与二氧化硅的相互作用:走向下一代157 nm光学光刻材料。
机译:使用不同光电调制器的两个外差光源在可见波长下的光学温度测量的比较
机译:超越紫外线的用于光刻的多层涂料的波长选择