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机译:氧气流量比和退火温度对反应磁控溅射沉积二氧化钛薄膜拉曼和光致发光的影响
Dep't of Mechanical Engineering, and Center for Micro/Nano Science and Technology, National Cheng Kung University, Tainan, 701. Taiwan, ROC;
Dep't of Mechanical Engineering, and Center for Micro/Nano Science and Technology, National Cheng Kung University, Tainan, 701. Taiwan, ROC;
Dep't of Mechanical Engineering, and Center for Micro/Nano Science and Technology, National Cheng Kung University, Tainan, 701. Taiwan, ROC;
titanium oxide; raman; photoluminescence; sputtering; thin film;
机译:反应性直流磁控溅射沉积钛氧化物薄膜的相形成:氧分压和氮掺杂的影响
机译:WO3块磁控溅射沉积氧化钨薄膜的结构和光学性质:退火温度的影响
机译:退火对射频反应磁控溅射沉积锑锡氧化物薄膜性能的影响
机译:退火氧流量对反应磁控溅射沉积氧化钒膜性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:磁控溅射从复合靶材上沉积的低氧化学计量外延ZrB2薄膜:沉积温度和溅射功率的影响