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机译:溅射制备的氧化钇稳定的氧化锆单晶上Mn稳定的ZrO_2外延层的结构
Max-Planck-Institut fuer Mikrostrukturphysik, Weinberg2, D-06120 Halle, Germany;
Max-Planck-Institut fuer Mikrostrukturphysik, Weinberg2, D-06120 Halle, Germany;
Max-Planck-Institut fuer Mikrostrukturphysik, Weinberg2, D-06120 Halle, Germany;
x-ray diffraction; manganese; zirconium; oxides;
机译:在单晶硅上沉积外延氧化钇稳定的氧化锆并随后生长非晶SiO2中间层
机译:通过溅射沉积在钇稳定氧化锆(111)上制备单晶外延铂膜
机译:氧化钇稳定的氧化锆单晶衬底上外延ZnO薄膜的生长
机译:离子束溅射制备的Fe / Si多层膜的磁性和晶体结构
机译:反应溅射沉积的氧化锆和氧化钇稳定的氧化锆涂层的相形成和微观结构。
机译:芯部设计生产工艺和材料选择对采用不同多层技术生产的氧化钇稳定的四方氧化锆多晶固定牙科修复体的断裂行为的影响:分体锉过压和手动组装饰面
机译:单晶氧化钇稳定氧化锆中的取向单畴Fe纳米粒子层
机译:具有单晶结构的2122 BCsCO超导体薄膜的外延层