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机译:直流磁控溅射沉积的二硼化钛薄膜中的氮掺入:结构修改
Departamento de Fisica, Pontificia Universidade Catolica do Rio de Janeiro, Rio de Janeiro, RJ, 22451-900, Brazil;
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borides; atomic force microscopy; x-ray photoelectron spectroscopy (XPS); x-ray diffraction; sputtering; surface roughness; stress;
机译:直流磁控溅射制备的二硼化钛薄膜:结构和机械性能
机译:反应性直流磁控溅射沉积氩/氮气体混合物的钛-铜-氮纳米复合薄膜
机译:氩/氮混合气体的活性直流磁控溅射沉积钛-铜-氮纳米复合薄膜
机译:通过氮气掺入,反应磁控溅射沉积二氧化钛薄膜的结构变化
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:直流磁控溅射沉积TiO2薄膜的生物相容性和表面性质
机译:直流磁控溅射制备的二硼化钛薄膜:结构和机械性能