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机译:作为扩散阻挡层的AlCrTaTiZr氮化物膜的高热稳定性
Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan;
Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan;
interconnect; nitride; diffusion barrier; thermal stability;
机译:热稳定的TiVCrZrHf氮化物膜作为铜金属化过程中的扩散阻挡层
机译:热稳定的非晶(AIMoNbSiTaTiVZr)_(50)N_(50)氮化物膜作为铜金属化过程中的扩散阻挡层
机译:AlcrtatizrMo-氮化物高熵膜作为Cu金属化扩散屏障的热稳定性
机译:具有极高热稳定性的多主元元素AlCrTaTiZr-氮化物纳米复合膜作为铜金属化的扩散阻挡层
机译:在Cu / SiLK(TM)金属化方案中,集成非晶钽氮化硅(TaSiN)薄膜作为扩散阻挡层。
机译:用于Cu / Si Connect系统的Alcrtatizr / AlcrtatizR-N高熵合金薄膜的扩散阻挡性能
机译:掺杂剂对氮化铁薄膜热稳定性和自扩散的影响
机译:非晶金属合金:铜金属化薄膜扩散阻挡层的新进展