机译:离子轰击诱导的等离子体辅助反应磁控溅射制备的铟锡氧化物薄膜的性能增强
Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Department of Engineering Physics, Ecoie Polytechnique de Montreal, Quebec, Canada H3C 3A7;
Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Department of Engineering Physics, Ecoie Polytechnique de Montreal, Quebec, Canada H3C 3A7;
Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Department of Engineering Physics, Ecoie Polytechnique de Montreal, Quebec, Canada H3C 3A7;
Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Department of Engineering Physics, Ecoie Polytechnique de Montreal, Quebec, Canada H3C 3A7;
Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Department of Engineering Physics, Ecoie Polytechnique de Montreal, Quebec, Canada H3C 3A7;
indium tin oxide; ion bombardment; optical coatings; electrical properties and measurements;
机译:反应直流磁控溅射制备氮掺杂铟锡氧化物薄膜的光电化学性质
机译:衬底温度升高对反应磁控溅射制备的铟锡氧化物薄膜生长,性能和结构的影响
机译:直流反应磁控溅射在不同氧压下制备的铟锡氧化物薄膜的物理性能
机译:反应磁控溅射制备退火铟锡钽氧化膜的性质
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:反应磁控溅射制备的电致变色铟锡锌氧化物薄膜
机译:锌掺杂铟锡氧化物薄膜的热电性能使用磁控凝固法制备