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机译:离子注入硅的光学性质以及在绝缘体上的氧硅在红外中的注入分离:B〜+和P_2〜+注入掺杂的研究
Department of Materials Science and Technology, University of Crete, P.O. Box 2208, 71003 Heraklion, Crete, Greece;
Solid State Section, Department of Physics, Aristotle University of Thessaloniki, 54124 Thessaloniki, Greece;
FTIR; ion implantation; profiles; refractive index; mobility; activation;
机译:植入氧晶片中绝缘体上硅层中电子陷阱状态的深入剖析以及绝缘体上硅/埋入氧化物界面附近的局部机械应力
机译:离子注入绝缘体上硅微环谐振器中的高速全光开关
机译:注入过程中衬底温度对离子注入硅力学性能的影响
机译:通过使用低掺杂的硅衬底,残留的距离损伤的低温退火离子注入的结降
机译:通过等离子体注入氧气和等离子体浸没离子注入进行分离,以形成绝缘体上硅。
机译:骨桥蛋白(OPN)是介导C离子注入硅橡胶生物相容性改善的重要蛋白质。
机译:聚焦镓离子束注入对绝缘体上硅衬底上纳米通道性能的影响
机译:衬底加热通过氧气注入形成绝缘体上硅结构