机译:射频磁控溅射沉积在聚萘二甲酸乙二醇酯基板上的氧化铟锡薄膜
Centra de Investigation y Estudios Avanzados del IPN-Unidad Queretaro, Apdo. postal 1-798, Queretaro, Qro., 76001, Mexico;
indium tin oxide; structural properties; optical properties; electrical properties and measurements; sputtering; x-ray diffraction;
机译:使用射频磁控溅射沉积在柔性聚萘二甲酸乙二醇酯基板上的透明掺杂镓的氧化锌导电薄膜的晶体,光学和电学特性
机译:沉积参数对射频磁控溅射沉积聚萘二甲酸乙二醇酯衬底上铟锡氧化物薄膜电学和力学性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积低铟含量的透明导电铟锌锡氧化物薄膜
机译:掺杂锰掺杂铟锡氧化膜的铁磁性沉积在聚对萘甲酸亚萘甲酸亚甲酸酯基质上
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:射频磁控溅射制备锗和硅掺杂的氧化铟薄膜