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机译:脉冲直流磁控溅射法制备有机发光二极管Ga掺杂ZnO薄膜的阳极材料性能
Department of Physics, Institute of Basic Science, and Brain Korea 21 Physics Research Division, Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, South Korea;
rnPKC Production Development Group, LG Innotek Co., Ltd. Osan, 447-705, Korea;
rnDepartment of Physics, Institute of Basic Science, and Brain Korea 21 Physics Research Division, Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, South Korea;
rnGraduate School of NID Fusion Technology, Seoul National University of Technology, Seoul, 139-743 South Korea;
gallium doped zinc oxide (GZO); organic light emitting diodes (OLEDs); pulsed DC magnetron sputtering; transparent conducting oxide (TCO);
机译:脉冲直流磁控溅射法制备的有机发光二极管阳极材料氧化铟锡(ITO)薄膜的电学和表面性能
机译:直流磁控溅射制备有机发光二极管Al掺杂ZnO共溅射InZnO阳极膜的特性
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:面靶溅射过程中脉冲直流频率变化引起的铟锡氧化物阳极的微观结构和电学性质变化及其对有机发光二极管J-V-L特性的影响
机译:新型铟锡氧化物阳极功能化/空穴传输有机材料的设计,合成,薄膜沉积和表征及其在高性能有机发光二极管中的应用。
机译:射频溅射制备Ga掺杂ZnO薄膜的光电性能和电稳定性
机译:不对称双极脉冲直流磁控溅射技术掺铝提高ZnO薄膜热电功率因数的研究