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【24h】

Reactive sputtering of ZnO/ZnO:Al contacts for chalcopyrite solar modules

机译:黄铜矿太阳能模块用ZnO / ZnO:Al触点的反应溅射

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摘要

Reactive sputtering is an option to further reduce costs associated with the deposition of the transparent front contact for chalcopyrite-based solar modules. Our approach here is to develop a proof of concept for a ZnO window, where the i-ZnO and the doped ZnO:Al are both sputtered in a reactive process. It is shown, that on cell level the device performance is preserved when replacing the standard RF processes with the fully reactive process. It is also shown, that the series resistance of module test structures increases with reactively sputtered ZnO. This finding, as well as a reduced damp heat stability of mini modules without encapsulation are tentatively assigned to an increased contact resistance and corrosion at the Molybdenum/ZnO interface within the interconnects.
机译:反应溅射是进一步降低与基于黄铜矿的太阳能模块的透明正面触点的沉积相关的成本的一种选择。我们在这里的方法是为ZnO窗口开发概念验证,其中i-ZnO和掺杂的ZnO:Al都在反应过程中溅射。结果表明,当用完全反应工艺代替标准RF工艺时,在单元级可以保持设备性能。还显示出,模块测试结构的串联电阻随着反应性溅射的ZnO的增加而增加。该发现以及微型模块在没有封装的情况下降低的湿热稳定性被暂时归因于互连中钼/ ZnO界面处增加的接触电阻和腐蚀。

著录项

  • 来源
    《Thin Solid Films》 |2011年第4期|p.1295-1298|共4页
  • 作者单位

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany, PVcomB, Schwarzschildstr. 3, D-12489 Berlin, Germany;

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany;

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany;

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany;

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany;

    Helmholtz-Zentrum-Berlin fuer Materialien und Energie, Lise-Meitner-Platz 1. D-14109 Berlin. Germany;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    ZnO; reactive sputtering; target voltage;

    机译:氧化锌;反应溅射目标电压;

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