机译:在CdTe膜上进行硝酸/磷蚀刻的钝化特性:蚀刻时间和硝酸浓度的影响
Escuela Superior de Fisica y Matemáticas (ESFM), Instituto) Politecnico National (IPN), C. P. 07738, Mexico D. F., Mexico;
Departamento de fisica, C1NVESTAV-IPN, AP.14-740, CP 07360, México DF, Mexico;
Escuela Superior de Fisica y Matemáticas (ESFM), Instituto) Politecnico National (IPN), C. P. 07738, Mexico D. F., Mexico;
Universidad Autonoma de la Ciudad de México, Av. la Corona 320, Col. Loma la Palma, Gustavo A. Madero, 07160, Mexico D.F., Mexico;
Instituto de Investigaciones en Materiales, Universidad National Autonoma de Mexico, Ciudad Universitaria, Coyoacan 04510, Mexico D.F., Mexico;
Passivation; Photoacoustic; Photoluminescence; CdTe; Thin film; Surface recombination velocity;
机译:硝酸磷酸腐蚀对CdTe薄膜表面化学成分的影响
机译:CdTe背触点的电性能:一种基于硝酸/乙酸混合物的新化学蚀刻工艺
机译:CdTe / CdS太阳能电池在不同的硝酸-磷蚀刻条件下的导纳光谱
机译:不同的氮磷刻蚀条件对CdS / CdTe太阳能电池导纳光谱的影响
机译:磷酸腐蚀结合自腐蚀底漆对搪瓷表面的影响以及所产生的正畸托槽粘结强度。
机译:HF蚀刻CAD / CAM材料:HF浓度和蚀刻时间对剪切粘结强度的影响
机译:硝酸浓度对多孔氧化锌薄膜刻蚀工艺,结构和光学性能的影响
机译:20%硝酸蚀刻液中游离氟离子的直接估算