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机译:A1_2O_3中的氧空位:光致发光研究和第一性原理模拟
Ural State Technical University, 19 Mira St. 620002, Ekaterinburg, Russia;
Institute of Semiconductor Physics, 13 ak. Lavrentiev ave. 630090, Novosibirsk, Russia;
Institute of Semiconductor Physics, 13 ak. Lavrentiev ave. 630090, Novosibirsk, Russia;
Institute of Inorganic Chemistry, 3 ak. Lavrentiev ave. 630090, Novosibirsk, Russia;
Institute of Geology and Mineralogy, 3 at Koptyug ave., 630090, Novosibirsk, Russia;
alumina; thin films; density functional theory; simulation; photoluminescence; chemical vapor deposition;
机译:镍中氧的空位修饰间隙扩散机制的第一性原理研究及大规模原子模拟技术
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机译:用第一性原理DFT和Monte Carlo模拟计算钙钛矿GdBaCo2O_(5 +δ)中双钙钛矿中氧离子和空位的排列
机译:氧气空位相互作用的第一原理研究及其对镧锶铁氧体氧气空位形成和迁移的影响
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机译:通过热处理和退火提高GeSe超薄板的光致发光效率:实验和第一性原理分子动力学模拟
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机译:退火Gaas中空位和空位杂质配合物的光致发光研究。