机译:直流电流反应溅射沉积透明氧化镍膜的光学特性
Institut des Materiaux Jean Rouxel, Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, BP 32229 44322 Nantes cedex 3, France;
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thin films; nickel oxide (nio); transparent p-type semiconductor; reactive sputtering; electrical discharge characteristics;
机译:溅射功率对直流反应磁控溅射沉积氧化银薄膜晶体结构和光学性能的影响
机译:溅射功率对直流反应磁控溅射沉积的氧化银膜晶体结构和光学性能的影响*
机译:直流反应磁控溅射沉积氧化镍薄膜的厚度依赖性
机译:反应性-DC-磁控溅射与离子束溅射和电子束蒸发膜沉积的氧化膜光学性质的比较
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:比较Bi2O3和NiO超薄膜的光学性质 采用直流溅射技术在不同基板上沉积透明 电子产品