...
机译:镁金属中间层作为高K电介质薄膜和硅衬底之间的氧扩散阻挡层
University of Oslo, Dpt. of Chemistry & SFI-inCAP, P.O. Box 1033 Blindem, 0315 Oslo, Norway,Universidade de Aveiro, Dpt. de Fisica, C1CECO, 3810-193 Aveiro, Portugal,University of Oslo, SMN, P.O. Box 1048 Blindern, 0315 Oslo, Norway;
University of Oslo, SMN, P.O. Box 1048 Blindern, 0315 Oslo, Norway, University of Oslo, Dpt of Physics, P.O. Box 1048 Blindem, 0316 Oslo, Norway;
Minatec-Crenoble-INP, IMEP-IAHC, UMR CNRS 5130,38016 Grenoble cedex 1, France;
University of Oslo, SMN, P.O. Box 1048 Blindern, 0315 Oslo, Norway;
Institute of Physics SAS, 845 11, Bratislava, Slovakia;
Universidade de Aveiro, Dpt. De Fisica, C1CECO, 3810-193 Aveiro, Portugal;
high-κ; dielectric; diffusion barrier; sputtering;
机译:具有高K NB2O5-Bi2O3-MgO陶瓷的高性能柔性单晶硅纳米晶型薄膜晶体管作为塑料基材上的栅极电介质
机译:高k电介质应用在金属表面上的二氧化钛薄膜的电沉积
机译:在Si(001)衬底上通过脉冲激光沉积在高k栅极电介质上生长的外延La_2Hf_20_7薄膜
机译:玻璃基板上具有高k HFO2电介质的四端多晶硅薄膜晶体管
机译:分子束外延在6个氢碳化硅衬底上生长的氧化镁纳米薄膜的工艺建模与化学计量分析
机译:表面等离子体共振传感器对贵金属薄膜介电常数的实验研究
机译:通过化学气相沉积在不同基板上生长的高K电介质应用SrTa2O6薄膜
机译:中间层对硅基板上超薄铜,金薄膜划痕附着性能的影响