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机译:溅射沉积在聚酰亚胺衬底上的氧化锌薄膜及其退火对物理特性的影响
National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics, 409 Atomistilor Street, PO Box MG-36, Magurele 077125, Ilfov, Romania;
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Annealing; Crystalline structure; Electrical properties; Kapton; Thin films; Zinc oxide; Sputtering;
机译:射频磁控溅射沉积在蓝宝石衬底上的氧化锌锡薄膜的物理性质
机译:后退火对柔性聚酰亚胺衬底上溅射纳米微晶铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积在柔性聚酰亚胺衬底上的锑化锌薄膜的热电性能
机译:基板温度对磁控溅射沉积氧化锌薄膜特性的影响
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:基材温度对磁控溅射层逐层掺杂锌氧化物薄膜结构,光学和电性能的影响