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机译:通过X射线反射率评估包含Ru或Ta缓冲层的CoFeB / MgO多层薄层中的界面宽度
Laboratorio MDM, IMM-CNR, via C. Olivetti 2,20864 Agrate Brianza (MB), Italy;
Institute d'Electronique Fondamentale, CNRS, UMR 8622, Universite Paris-Sud, 91405 Orsay, France;
Singulus Technologies AC, Hanauer Landstrasse 103, 63796 Kahl am Main, Germany;
Laboratorio MDM, IMM-CNR, via C. Olivetti 2,20864 Agrate Brianza (MB), Italy;
Institute d'Electronique Fondamentale, CNRS, UMR 8622, Universite Paris-Sud, 91405 Orsay, France;
X -ray reflectivity; multilayers; CoFeB/MGO; Ta; Ru; interface width; perpendicular magnetic anisotropy;
机译:Ta / CoFeB / MgO和Pt / CoFeB / MgO多层薄膜叠层界面磁各向异性的起源
机译:Pt和CoFeB在Pt / CoFeB / MgO多层薄膜叠层界面磁各向异性上的影响
机译:MgO / CoFeB / Ta / Ru基多层膜中界面磁各向异性随退火温度的变化
机译:多层X射线反射镜的全电子产率X射线驻波测量,用于评估界面结构
机译:新型超薄薄膜和多层的铁磁性:使用磁光克尔效应和旋敏电子谱的Ru / C(0001)和Fe / Mn / Fe / Pd(100)的研究
机译:在垂直MgO / CoFeB / W / CoFeB / MgO记录框中增强超薄W空间层的热稳定性
机译:mgO / CoFeB / Ta / Ru基多层膜界面磁各向异性随退火温度的变化
机译:强X射线通量导致金属多层X射线反射率降低的实验测量