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机译:氮化铜的电子结构与氮含量的关系
Cel Campus Moncloa, UCM-UPM, Madrid, Spain Institute de Fusion Nuclear, ETSI de Industrials, Universidad Politecnica de Madrid, 28006-Madrid, Spain;
Institute de Fusion Nuclear, ETSI de Industrials, Universidad Politecnica de Madrid, 28006-Madrid, Spain;
Departamento de Fisica de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain Instituto de Microelectronica de Madrid (IMM), CNM-CSIC c/Isaac Newton, 8: 28760 Tres Cantos, Madrid, Spain;
Departamento de Fisica de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain;
Departamento de Fisica de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain;
Departamento de Fisica de la Materia Condensada, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain;
Departamento de Fisica de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain Centro de Microanalisis de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid 28049-Madrid, Spain;
copper nitride; electronic structure; sebeeck coefficient; density functional theory;
机译:封闭在掺氮碳骨架中的铜镍氮化物纳米线阵列中的镍铜纳米合金的电学行为和电子转移调节,该鲁棒双功能电催化剂用于总水分解
机译:反应性射频磁控溅射制备不同氮含量的氮化铜膜及其表征
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机译:氮含量对直流磁控溅射氮化铜膜光学性能的影响
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机译:氮化铜的电子结构与氮含量的关系