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机译:使用液体源前驱体通过激光化学气相沉积法在CeO_2缓冲膜上沉积的YBa_2Cu_3O_(7-δ)的取向控制和电性能
Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
Yttrium barium copper oxide; Cerium oxide; Crystalline orientation; Laser chemical vapor deposition;
机译:沉积温度对液源蒸发激光CVD制备的YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜取向和电学性能的影响
机译:沉积温度对液源蒸发激光CVD制备的YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜取向和电学性能的影响
机译:激光化学气相沉积法制备(100)CeO_2和(110)YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜
机译:生长温度对YBA_2CU_3O_(7-δ)前体膜气相沉积组成对照的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:可调材料属性与交联聚(N-乙烯基己内酰胺)的热响应性通过化学气相沉积沉积的薄膜
机译:化学束气相沉积系统的几何形状,用于薄氧化膜的有效组合研究:沉积膜特性与前体流动模拟
机译:使用三元单源前体通过气溶胶辅助化学气相沉积沉积CuIns2薄膜