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机译:射频磁控反应溅射在大气中各种N-2含量下沉积在聚醚砜上的氮氧化硅薄膜的透气性能
Natl Chung Hsing Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taichung 40227, Taiwan;
Natl Chung Hsing Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taichung 40227, Taiwan;
Thin films; Gas barrier; Silicon oxynitride; Polyether sulfone; Radio-frequency sputtering; Water vapor transmission; Light transmittance;
机译:射频反应磁控溅射沉积在聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上的氧化硅薄膜的表征
机译:反应式射频磁控溅射沉积TaSiN薄膜的性能
机译:非反应性射频磁控溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的缺陷电导率关系及其表征
机译:反应磁控溅射沉积氧氮化钛薄膜:结构和物理机械性能
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:通过射频反应磁控溅射沉积的Ga-Zn-O薄膜中的扩散行为和电性能