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机译:各种硅层对直流磁控溅射Fe / Si多层膜层间厚度的影响
Tongji Univ, IPOE, MOE Key Lab Adv Microstruct Mat, Shanghai 200092, Peoples R China.;
Tongji Univ, IPOE, MOE Key Lab Adv Microstruct Mat, Shanghai 200092, Peoples R China.;
Tongji Univ, IPOE, MOE Key Lab Adv Microstruct Mat, Shanghai 200092, Peoples R China.;
Univ London Imperial Coll Sci Technol & Med, Dept Phys, Plasma Phys Grp, London SW7 2AZ, England.;
Tongji Univ, IPOE, MOE Key Lab Adv Microstruct Mat, Shanghai 200092, Peoples R China.;
Tongji Univ, IPOE, MOE Key Lab Adv Microstruct Mat, Shanghai 200092, Peoples R China.;
Magnetron sputtering; Interface; Fe/Si multilayer;
机译:双层周期对直流磁控溅射获得的Tanx / Tacx多层机械性能的影响
机译:化学镀镍中间层对反应直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米TiAlN / CrN多层涂层电化学行为的影响
机译:反应性直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米层TiAlN / CrN多层涂层的电化学行为
机译:工作气体压力对磁控沉积Mo / Si多层膜中层间混合的影响
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:通过动态透明角度直流磁控溅射制造的富含氮的CR1-XALXN多层涂层
机译:通过动态透明角度直流磁控溅射制造的富含氮的CR1-XALXN多层涂层