...
机译:气体聚集的磁控溅射中氧在钨反应性束流沉积中的作用
Charles Univ Prague, Fac Math & Phys, Dept Surface & Plasma Sci, CZ-18000 Prague, Czech Republic.;
Charles Univ Prague, Fac Math & Phys, Dept Surface & Plasma Sci, CZ-18000 Prague, Czech Republic.;
HVM Plasma Ltd, CZ-15800 Prague 5, Czech Republic.;
HVM Plasma Ltd, CZ-15800 Prague 5, Czech Republic.;
Tungsten oxide; Nanocluster; Reactive sputtering; Cluster formation; Gas aggregation; XPS; SEM; AFM;
机译:氧含量对反应磁控溅射氧化钨薄膜电致变色性能的影响
机译:添加氧对射频反应磁控溅射生长ZnO薄膜物理性能的影响
机译:沉积后等离子体处理对等离子体辅助反应磁控溅射制备的非晶InGaZnO_x薄膜晶体管稳定性的影响
机译:直流反应磁控溅射制备WO_3薄膜氨气传感器中添加Ti的影响
机译:通过反应磁控溅射方法沉积纳米级和大型氮化铝。
机译:沉积后退火环境对氮化镓上射频磁控溅射Y2O3薄膜能带取向的影响
机译:二硫化钨($ WS_ {2-x} $)薄膜的反应磁控溅射:沉积参数对织构,微观结构和化学计量的影响