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机译:衬底温度和退火对反应性电子束蒸发沉积TiO2薄膜结构和光学性能的影响
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Univ Belgrade, VINCA Inst Nucl Sci, Belgrade 11001, Serbia.;
Marie Curie Sklodowska Univ, Inst Phys, PL-20031 Lublin, Poland.;
TiO2 thin films; Reactive evaporation; Optical properties; Rutherford backscattering spectrometry; X-ray photoemission spectroscopy;
机译:热退火对反应性电子束蒸发沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:N掺杂和空气退火对室温反应DC溅射沉积TiO2薄膜结构和光学性能的影响
机译:基板温度和后退火对使用电子束蒸发沉积的CIGS薄膜性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积锡薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:过渡金属掺杂对通过溶胶-凝胶法沉积在Si衬底上的TiO2膜的结构光学和磁性的影响
机译:衬底温度对热蒸发沉积CdS薄膜的结构,光学和电学性质的影响